四氟甲烷 R-14
超低温制冷剂;电子器件表面清洗剂；科研，医用制冷。属于FC类物质，对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化碳、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。